Nivea
Q10 Anti-Wrinkle Extra Nourish Replenishing Day Cream SPF 15
Nivea Q10 Anti-Wrinkle Extra Nourish Replenishing Day Cream SPF 15 nie zawiera Olejki eteryczne, Alergeny zapachowe wymagające oznakowania, Alkohol wysuszający, Siarczany, Silikony, Parabeny & MI / MCI według pełnej listy 28 składników. Lista sprawdzona 5 listopada 2026.
Haczyk: zawiera Perfumy & Chemiczne filtry UV.
- Zawiera: Perfumy
- Bez olejków eterycznych
- Bez alergenów zapachowych wymagających oznakowania
- Bez alkoholu wysuszającego
- Bez siarczanów
- Bez silikonów
- Bez parabenów
- Bez MI/MCI
Kup na Amazon Linki partnerskie
Kluczowe składniki
Glycerin · Squalane · Shea butter · Vitamin E
Pełna lista składników, rozszyfrowana
28 składników, w kolejności z etykiety (od największej ilości; poniżej ok. 1% kolejność jest dowolna).
- 1Aqua
- 2Glycerin
- 3Ethylhexyl SalicylateChemiczne filtry UV
- 4C12-15 Alkyl Benzoate
- 5Methylpropanediol
- 6Cetearyl Alcohol
- 7Butyl MethoxydibenzoylmethaneChemiczne filtry UV
- 8Caprylic/Capric Triglyceride
- 9Glyceryl Stearate
- 10Glyceryl Stearate Citrate
- 11Hydroxypropyl Starch Phosphate
- 12Butyrospermum Parkii Butter
- 13Phenylbenzimidazole Sulfonic AcidChemiczne filtry UV
- 14Ubiquinone
- 15Creatine
- 161-Methylhydantoin-2-Imide
- 17Tocopherol
- 18Argania Spinosa Kernel Oil
- 19Vitis Vinifera Seed Oil
- 20Squalane
- 21Ethylhexylglycerin
- 22Caprylyl Glycol
- 23Xanthan Gum
- 24Bis-Ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl TriazineChemiczne filtry UV
- 25Trisodium EDTA
- 26Sodium Hydroxide
- 27Phenoxyethanol
- 28ParfumPerfumy
Źródło: Open Beauty Facts (ODbL), pobrano 5 listopada 2026.
Wszystkie sprawdzane czynniki
- Perfumy: Parfum (#28)
- Chemiczne filtry UV: Ethylhexyl Salicylate (#3), Butyl Methoxydibenzoylmethane (#7), Phenylbenzimidazole Sulfonic Acid (#13), Bis-Ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl Triazine (#24)
Frequently asked questions
Czy Nivea Q10 Anti-Wrinkle Extra Nourish Replenishing Day Cream SPF 15 jest bez perfum?
Nie. Nivea Q10 Anti-Wrinkle Extra Nourish Replenishing Day Cream SPF 15 zawiera Parfum.